Magnetron Sputtering

ÀζóÀÎ TCO ½ºÆÛÅÍ Àåºñ´Â ´Ù¾çÇÑ Å©±âÀÇ À¯¸® ±âÆÇ À§¿¡ TCO ¹× ¹Ý¹Ý»ç ÃþÀ» ºÐ»çÇϵµ·Ï ¼³°è µÇ¾ú½À´Ï´Ù

ÀζóÀÎ Àú¿Â½ºÆÛÅÍ ½Ã½ºÅÛÀº Àüü °øÁ¤À» 150µµ ¹Ì¸¸ ¿Âµµ¿¡¼­, ¾ãÀº Àμâȸ·Î ±âÆÇ¿¡ ¸¶ÀÌÅ©·Ð µÎ²²ÀÇ ±Ý¼Ó ÃþÀ» ¸î¸î °³ ½ºÆÛÅ͸µ Çϵµ·Ï ¼³°è ÇÏ¿´½À´Ï´Ù

ÄÁ¼Á : ·ÎÅ© è¹ö°¡ ÀåÂøµÈ ÄÄÆÑÆ® ¸¶±×³×Æ®·Ð ½ºÆÛÅ͸µ ±â°è

TOP